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OLS5100 3D測量激光顯微鏡以納米精度賦能半導體光刻制程革新

瀏覽次數:315 發布日期:2025-6-10  來源:本站 僅供參考,謝絕轉載,否則責任自負
奧偉登(Evident)LEXT OLS5100 3D測量激光顯微鏡重磅賦能半導體光刻領域!融合納米級測量精度與智能自動化技術,突破散射光干擾與微小結構檢測瓶頸,為光刻膠厚度控制、蝕刻圖案驗證及缺陷分析提供全流程解決方案,助力先進制程良率躍升與工藝創新。
 

 

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