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飛納電鏡和離子研磨儀在元器件封裝失效分析的案例分享

瀏覽次數:1229 發布日期:2022-10-27  來源:本站 僅供參考,謝絕轉載,否則責任自負
如果說電子芯片,是沙子千錘百煉的蛻變;那電子器件封裝,是它一展拳腳的筋骨肉身。電子器件封測的成功總是千篇一律,但不成功的封裝卻總是千奇百怪,話不多說,開始嘍!

器件焊線連接芯片和引腳,連接芯片一端,一般為第一焊點(DB 代稱),另一端連接金屬框架引腳(WB 代稱),這兩處的焊接性能是封裝失效分析重點關注的部分,下面就以此案例,分享一些器件封裝失效分析的小知識,小編拋磚引玉,大家相互交流學習。


為了清晰觀測到失效位置的內部結構情況,本次元器件分析樣品使用飛納電鏡結合離子研磨儀無損拋光的方式,來對位置 1#WB、2#DB,不噴金進行SEM-EDS 以及 SEM-ECCI 分析。
 
  

2#DB 第一焊點失效分析
 

從第一焊點 DB 截面形狀來看,打線的能量很足,金球形變很大,從 EICC 相來看,應力分布在頸部。
 

 
掃描電鏡下可見金線與焊盤合金化不夠理想,合金層不連續,芯片焊盤和金線之間未形成良好的金屬間化合物,連接強度勢必會收影響,即便短期不出問題,長期抗疲勞情況也較為堪憂。

1#WB 截面失效分析

再來看 WB 情況,情況更為糟糕,恐怕是直接造成此次器件失效的直接原因。

 

從切面來看兩個焊點完全失效,焊點完全從鍵合區分離,造成開路失效。扁平的焊球表明熔球溫度與鍵合壓力不是故障的主要原因。鍵合區表面污染,可能是導致鍵合失效的潛在原因,但掃描電鏡圖像顯示 ball bond 底部極為平整,不像是 ball bond 壓到異物之后的形成的形狀,而更像是 ball bond 鍵合后由于某種原因脫離而成。再進一步放大看細節。
 

焊盤鍍銀層有異常凹陷,封裝過程中銀層脫落碎屑有搬移并填充在引線和焊盤之間,封裝膠有疏松堆積。
 

結合能譜結果分析,可以看見封裝膠遷移、流動和堆積。而且案例中所選用的金線,EDS 分析含有多種金屬,尤其含有微量的有毒重金屬汞,推測應為電子垃圾回收金,大家可要擦亮眼睛,這是 RoSH 重點關注的有毒有害金屬。
 
1#WB 截面 EDS 結果

能譜結果發現,銅-鎳-銀焊盤與封裝膠界面能譜分析,銀層有很大沉積顆粒,界面還有硅異質顆粒。


焊盤和基板與封裝膠嚴重分離縫隙明顯,封裝過程中銀層脫落碎屑有搬移,封裝膠與異物邊緣堆積。

以上就是一個元器件封裝失效分析的具體案例,結合離子研磨儀的制樣方法,使用飛納電鏡(SEM-EDS 聯用)對樣品進行封裝失效分析測試,不僅可以清晰觀測失效位置的 SEM 形貌和 ECCI 相,還可以結合能譜結果進一步做綜合分析,任何缺陷都將無處藏匿。
發布者:復納科學儀器(上海)有限公司
聯系電話:400-857-8882
E-mail:cici.yang@phenom-china.com

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