2019年3月22日，歷時三天的SEMICON CHINA 2019展會在上海完美落下帷幕。賽默飛擁有行業領先的全方位解決方案，為半導體及相關行業關鍵環節提供多層次技術支撐。半導體行業分析利器——Thermo Scientific™ iCAP™ TQs（三重四極桿）ICP-MS的亮相，吸引眾多觀眾駐足交流學習。

賽默飛展臺

半導體行業的發展，引領全球生產力的發展。1984年個人電腦開始普及、1990年互聯網誕生、2002年3G通信時代來臨、2007年智能手機誕生，這些時間節點上的變化，其實都有半導體行業的“大進展”。全球GDP的增長，半導體的影響可謂功不可沒。

硅晶片是應用最廣泛的半導體基材，工業上使用對其純度要求特別高，通常需要在99.9999999% 以上。在生產制造過程中，通常需要對其純度進行檢測。常用硅純度檢測的方法如：氣相分解—電感耦合等離子體質譜聯用方法（簡稱 VPD 法），具有業界所需的檢測限和穩定性，測試結果快速可靠。為了得到更加精確的結果，去除基體溶液中多原子離子的干擾是非常必要的，比如使用串接式ICP-MS iCAP™ TQs。

iCAP™ TQs ICP-MS助力半導體發展

賽默飛專業技術團隊和銷售團隊現場與觀眾進行深入探討交流，為半導體行業的發展貢獻一份力量。

領略TQ技術：高效的干擾消除能力，確保準確可靠的測試結果

• 利用多達四種不同的碰撞反應氣體和獨特的Reaction Finder技術來簡化方法開發步驟。無需擁有復雜反應化學的高深知識，Reaction Finder幫您完成一切

• 綜合反應氣體處理功能，確保儀器操作安全可靠

• 采用預設的單模式動能歧視效應（KED），簡便、快速、可靠地獲得SQ的分析結果

• 在單個樣品的分析中輕松實現從SQ到TQ模式的切換，保證最大的分析靈活性，為完整分析提供最佳結果

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多層次技術支撐全方位滿足您的分析要求

一、痕量金屬及無機元素雜質檢測方案

1. ICP-MS 檢測解決方案

Thermo Scientific™ ICP-MS 產品包括Thermo Scientific™ iCAP™ RQ （單四極桿） 和 Thermo Scientific™ iCAP™ TQs（三重四極桿），可輕松實現：

1）高純試劑（清洗劑和刻蝕劑）中痕量元素雜質實驗室和在線分析；

2）單晶硅錠和晶圓中痕量元素分析；

3）wafer 表面痕量元素分析。

ICAP RQ

ICAP TQ

2. 高分辨 ICP-MS 檢測解決方案

HR-ICP-MS 是以電磁場和靜電場作為質量分析器，結合專利的固定分辨率狹縫技術實現高質量分辨率的ICP-MS。采用高分辨ICP-MS 分析半導體級別試劑中雜質元素更簡單方便，高分辨ICP-MS 具有更強的抗干擾能力。

ELEMENT™ 系列 ICP-MS

二、痕量離子態雜質檢測方案

1. 離子色譜（IC）檢測解決方案

賽默飛提供世界最先進的離子色譜和相關技術為高純水痕量陰陽離子分析的離線和在線監測、半導體表面痕量陰陽離子污染分析、高純試劑中離子雜質和工作場所空氣中痕量離子態物質的分析提供解決方案。尤其是高純水，幾乎半導體生產的所有過程均需要使用，因此其質量非常重要，如ASTM 和SEMI 對高純水中雜質離子有不同的明確限值要求。

通過賽默飛離子色譜，采用大定量環上樣，可實現高純水中ppt 級別雜質分析：

Dionex™ ICS-6000多功能高壓離子色譜

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