賽默飛SEMICON錦囊打包，全方位滿足您的分析需求

瀏覽次數(shù)：4304　發(fā)布日期：2019-3-26　來源：本站　本站原創(chuàng)，轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處

2019年3月22日，歷時(shí)三天的SEMICON CHINA 2019展會(huì)在上海完美落下帷幕。賽默飛擁有行業(yè)領(lǐng)先的全方位解決方案，為半導(dǎo)體及相關(guān)行業(yè)關(guān)鍵環(huán)節(jié)提供多層次技術(shù)支撐。半導(dǎo)體行業(yè)分析利器——Thermo Scientific™ iCAP™ TQs（三重四極桿）ICP-MS的亮相，吸引眾多觀眾駐足交流學(xué)習(xí)。

賽默飛展臺(tái)

半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展，引領(lǐng)全球生產(chǎn)力的發(fā)展。1984年個(gè)人電腦開始普及、1990年互聯(lián)網(wǎng)誕生、2002年3G通信時(shí)代來臨、2007年智能手機(jī)誕生，這些時(shí)間節(jié)點(diǎn)上的變化，其實(shí)都有半導(dǎo)體行業(yè)的“大進(jìn)展”。全球GDP的增長(zhǎng)，半導(dǎo)體的影響可謂功不可沒。

硅晶片是應(yīng)用最廣泛的半導(dǎo)體基材，工業(yè)上使用對(duì)其純度要求特別高，通常需要在99.9999999% 以上。在生產(chǎn)制造過程中，通常需要對(duì)其純度進(jìn)行檢測(cè)。常用硅純度檢測(cè)的方法如：氣相分解—電感耦合等離子體質(zhì)譜聯(lián)用方法（簡(jiǎn)稱 VPD 法），具有業(yè)界所需的檢測(cè)限和穩(wěn)定性，測(cè)試結(jié)果快速可靠。為了得到更加精確的結(jié)果，去除基體溶液中多原子離子的干擾是非常必要的，比如使用串接式ICP-MS iCAP™ TQs。

iCAP™ TQs ICP-MS助力半導(dǎo)體發(fā)展

賽默飛專業(yè)技術(shù)團(tuán)隊(duì)和銷售團(tuán)隊(duì)現(xiàn)場(chǎng)與觀眾進(jìn)行深入探討交流，為半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展貢獻(xiàn)一份力量。

領(lǐng)略TQ技術(shù)：高效的干擾消除能力，確保準(zhǔn)確可靠的測(cè)試結(jié)果

• 利用多達(dá)四種不同的碰撞反應(yīng)氣體和獨(dú)特的Reaction Finder技術(shù)來簡(jiǎn)化方法開發(fā)步驟。無需擁有復(fù)雜反應(yīng)化學(xué)的高深知識(shí)，Reaction Finder幫您完成一切

• 綜合反應(yīng)氣體處理功能，確保儀器操作安全可靠

• 采用預(yù)設(shè)的單模式動(dòng)能歧視效應(yīng)（KED），簡(jiǎn)便、快速、可靠地獲得SQ的分析結(jié)果

• 在單個(gè)樣品的分析中輕松實(shí)現(xiàn)從SQ到TQ模式的切換，保證最大的分析靈活性，為完整分析提供最佳結(jié)果

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多層次技術(shù)支撐全方位滿足您的分析要求

一、痕量金屬及無機(jī)元素雜質(zhì)檢測(cè)方案

1. ICP-MS 檢測(cè)解決方案

Thermo Scientific™ ICP-MS 產(chǎn)品包括Thermo Scientific™ iCAP™ RQ （單四極桿）和 Thermo Scientific™ iCAP™ TQs（三重四極桿），可輕松實(shí)現(xiàn)：

1）高純?cè)噭ㄇ逑磩┖涂涛g劑）中痕量元素雜質(zhì)實(shí)驗(yàn)室和在線分析；

2）單晶硅錠和晶圓中痕量元素分析；

3）wafer 表面痕量元素分析。

ICAP RQ

ICAP TQ

2. 高分辨 ICP-MS 檢測(cè)解決方案

HR-ICP-MS 是以電磁場(chǎng)和靜電場(chǎng)作為質(zhì)量分析器，結(jié)合專利的固定分辨率狹縫技術(shù)實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量分辨率的ICP-MS。采用高分辨ICP-MS 分析半導(dǎo)體級(jí)別試劑中雜質(zhì)元素更簡(jiǎn)單方便，高分辨ICP-MS 具有更強(qiáng)的抗干擾能力。

ELEMENT™ 系列 ICP-MS

二、痕量離子態(tài)雜質(zhì)檢測(cè)方案

1. 離子色譜（IC）檢測(cè)解決方案

賽默飛提供世界最先進(jìn)的離子色譜和相關(guān)技術(shù)為高純水痕量陰陽離子分析的離線和在線監(jiān)測(cè)、半導(dǎo)體表面痕量陰陽離子污染分析、高純?cè)噭┲须x子雜質(zhì)和工作場(chǎng)所空氣中痕量離子態(tài)物質(zhì)的分析提供解決方案。尤其是高純水，幾乎半導(dǎo)體生產(chǎn)的所有過程均需要使用，因此其質(zhì)量非常重要，如ASTM 和SEMI 對(duì)高純水中雜質(zhì)離子有不同的明確限值要求。

通過賽默飛離子色譜，采用大定量環(huán)上樣，可實(shí)現(xiàn)高純水中ppt 級(jí)別雜質(zhì)分析：